判斷題材料對抗小能量多次沖擊抗力的大小主要取決于材料的強度和塑性。
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最有效的復合中心能級位置在Ei附近；最有利陷阱作用的能級位置在（）附近，常見的是少子陷阱。
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在通常情況下，GaN呈（）型結(jié)構(gòu)。
題型：單項選擇題
PN結(jié)的基本特性是（）
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可用作硅片的研磨材料是（）
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只涉及到大約一個原子大小范圍的晶格缺陷是（）。
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下列哪個不是單晶常用的晶向（）
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熱處理中氧沉淀的形態(tài)不包括（）
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用能量（）禁帶寬度的光子照射p-n結(jié)會產(chǎn)生光生伏特效應。
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對于大注入下的直接復合，非平衡載流子的壽命不再是個常數(shù)，它與（）。
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在光線作用下，能使物體產(chǎn)生一定方向的電動勢的現(xiàn)象稱（）
題型：單項選擇題