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問答題掩模制作方法有哪些？

圖案發(fā)生器方法、X射線制版、電子束掃描法

1.問答題什么是掩模？掩模與集成電路制造有什么關(guān)系？制做掩模的數(shù)據(jù)從哪兒來？

掩膜是涂有特定圖案的鉻薄層（60~80nm）的均勻平坦的石英玻璃薄片、一層掩膜對應(yīng)一塊IC的一層材料的加工、版圖。

2.問答題分子束外延生長有什么特點(diǎn)？

只能在超真空中進(jìn)行且量產(chǎn)較低、在GaAs基片上生長無限多外延層、可以控制參雜的深度和精度到納米級

3.問答題金屬有機(jī)物氣相外延生長和一般的氣相外延生長的最大區(qū)別是什么？

它是一種冷壁工藝，只要將襯底控制到一定溫度就行了

4.問答題液態(tài)生長有什么優(yōu)缺點(diǎn)？

最簡單最廉價(jià)但其外延層的質(zhì)量不高

5.問答題什么是鹵素傳遞生長法？它屬于4種生長方法中的哪一種？

把至少一種外延層組成元素以鹵化物形式通過襯底并發(fā)生鹵素析出反應(yīng)從而形成外延層的過程，它屬于氣相外延生長法。