問(wèn)答題列舉兩種典型的金屬與半導(dǎo)體接觸。
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1.問(wèn)答題試述半導(dǎo)體特性及其應(yīng)用。
2.問(wèn)答題集成電路制造中,導(dǎo)體、半導(dǎo)體和絕緣體各起什么作用?
3.問(wèn)答題按規(guī)模劃分,集成電路的發(fā)展已經(jīng)歷了哪幾代?
4.問(wèn)答題比較標(biāo)準(zhǔn)單元法和門(mén)陣列法的差異。
5.問(wèn)答題試述“自頂向下”集成電路設(shè)計(jì)步驟。
最新試題
晶體管的名字取自于()和()兩詞。
題型:多項(xiàng)選擇題
20世紀(jì)上半葉對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)量展做出貢獻(xiàn)的4種不同產(chǎn)業(yè)主要是()。
題型:多項(xiàng)選擇題
什么是電阻率?它的單位是什么(國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)單位制)?
題型:?jiǎn)柎痤}
BiCMOS技術(shù)就是將()和()的優(yōu)良性能集中在同一塊集成電路器件中。BiCMOS綜告了CMOS結(jié)構(gòu)的低功耗、高集成度和TTL或ECL器件結(jié)構(gòu)的高電流驅(qū)動(dòng)能力。
題型:多項(xiàng)選擇題
根據(jù)圖,給出M2管的漏極電流表達(dá)式。
題型:?jiǎn)柎痤}
材料根據(jù)流經(jīng)材電流的不同可分為三類(lèi)()。
題型:多項(xiàng)選擇題
MOS器件按比例縮小后對(duì)器件特性有什么影響?
題型:?jiǎn)柎痤}
集成電容主要有幾種結(jié)構(gòu)?
題型:?jiǎn)柎痤}
在圖中,若所有的晶體管都工作在飽和區(qū),求M4的漏電流。
題型:?jiǎn)柎痤}
規(guī)定版圖幾何設(shè)計(jì)規(guī)則的意義是什么?
題型:?jiǎn)柎痤}