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問答題熱蒸發(fā)制備薄膜的過程有哪些？

準備→抽真空→預蒸→蒸發(fā)→取片

1.問答題氣體直流輝光放電分為哪幾個區(qū)？其中輝光放電區(qū)包括哪幾個區(qū)？濺射區(qū)域選擇在哪個區(qū)？

2.問答題APCVD、LPCVD、PECVD和HDPCVD中文名稱分別是？

常壓化學氣相淀積、低壓化學氣相淀積、等離子增強化學氣相淀積和高密度等離子體化學氣相淀積

3.問答題離子注入后為什么要退火？

1）氧化生成保護膜
2）離子再分布，減小雜質濃度差
3）修復損傷
4）激活注入雜質

4.問答題什么是溝道效應？抑制方法？

5.問答題什么是擴散工藝？