最新試題
例舉離子注入工藝和擴(kuò)散工藝相比的優(yōu)點和缺點。
題型:問答題
光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么?
題型:問答題
離子源的目的是什么?最常用的離子源是什么?
題型:問答題
解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的?掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問題?
題型:問答題
哪種化學(xué)氣體經(jīng)常用來刻蝕多晶硅?描述刻蝕多晶硅的三個步驟。
題型:問答題
什么是阻擋層金屬?阻擋層材料的基本特征是什么?哪種金屬常被用作阻擋層金屬?
題型:問答題
解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低?
題型:問答題
定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低?高選擇比意味著什么?
題型:問答題
干法刻蝕的目的是什么?例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點。干法刻蝕的不足之處是什么?
題型:問答題
例舉離子注入設(shè)備的5個主要子系統(tǒng)。
題型:問答題