問(wèn)答題Wafer下線的第一道步驟是形成start oxide 和zero layer? 其中start oxide的目的是為何？

參考答案：

①不希望有機(jī)成分的光刻膠直接碰觸Si表面。
②在laser刻號(hào)過(guò)程中，亦可避免被產(chǎn)生的粉塵污染。