問答題試說明半導體制造中擴散工藝的主要目的。列出并解釋實際擴散工藝的主要步驟，并說明個步驟的主要作用和工藝溫度。

參考答案： 在晶圓表面產(chǎn)生特定數(shù)量的摻雜原子；
在晶圓表面下的特定位置處形成pn結(jié)；
在晶圓表面層形成特定的摻雜...