問答題為什么水汽氧化生成的氧化層質(zhì)量不如干氧氧化層？工藝中采用什么辦法來改善其氧化層質(zhì)量？
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列出并解釋替位雜質(zhì)在硅中的三種主要擴(kuò)散機(jī)制。
題型：?jiǎn)柎痤}
純凈的半導(dǎo)體稱為本征半導(dǎo)體。
題型：判斷題
在PN 結(jié)形成過程中，空穴的擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)方向是從P 區(qū)到N 區(qū)。
題型：判斷題
OED/ORD
題型：名詞解釋
試說明半導(dǎo)體制造中擴(kuò)散工藝的主要目的。列出并解釋實(shí)際擴(kuò)散工藝的主要步驟，并說明個(gè)步驟的主要作用和工藝溫度。
題型：?jiǎn)柎痤}
與多數(shù)載流子相比，少數(shù)載流子的濃度受溫度影響大。
題型：判斷題
什么是擴(kuò)散的相互作用？試舉一例說明其對(duì)半導(dǎo)體器件的制造有何影響及其產(chǎn)生的原因。
題型：?jiǎn)柎痤}
試說明硅工藝中常用摻雜雜質(zhì)B，P，As的擴(kuò)散特性。
題型：?jiǎn)柎痤}
根據(jù)空位機(jī)制下的總擴(kuò)散系數(shù)公式，給出本征硅，低濃度摻雜，N型重?fù)诫s及P型重?fù)诫s下的擴(kuò)散系數(shù)公式。
題型：?jiǎn)柎痤}
在P 型半導(dǎo)體中，空穴濃度大于自由電子濃度。
題型：判斷題