判斷題CVD系統(tǒng)包括熱壁式CVD系統(tǒng)和冷壁式CVD系統(tǒng),在冷壁式CVD系統(tǒng)中側(cè)壁溫度與沉底溫度相等。
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規(guī)定版圖幾何設(shè)計(jì)規(guī)則的意義是什么?
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編寫(xiě)DRC版圖驗(yàn)證文件的主要依據(jù)是什么?
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在圖中,若所有的晶體管都工作在飽和區(qū),求M4的漏電流。
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晶體管的名字取自于()和()兩詞。
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集成電路電阻可以通過(guò)()產(chǎn)生。
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MOS場(chǎng)效應(yīng)管(MOSFET)在20世紀(jì)70年代得到了廣泛的接受,從那時(shí)起到現(xiàn)在一直是集成電路的主流晶體管。MOSFET有兩類(lèi)()和()。每種類(lèi)型可由各自器件的多數(shù)載流子來(lái)區(qū)別。
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比較砷化鎵和磷化銦等襯底與硅襯底上的電感等效電路,試分析兩者存在差異的原因。
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BiCMOS技術(shù)就是將()和()的優(yōu)良性能集中在同一塊集成電路器件中。BiCMOS綜告了CMOS結(jié)構(gòu)的低功耗、高集成度和TTL或ECL器件結(jié)構(gòu)的高電流驅(qū)動(dòng)能力。
題型:多項(xiàng)選擇題
利用2μm×6μm的多晶硅柵極覆蓋在4μm×12μm薄氧化層的正中間構(gòu)成一個(gè)MOS管,已知Cox=5×10-4pF/μm2,估算柵極電容。
題型:?jiǎn)柎痤}
在圖中,若所有的晶體管都工作在飽和區(qū),畫(huà)出Vx從一個(gè)大的正值下降時(shí)Ix的草圖。
題型:?jiǎn)柎痤}