問答題

請(qǐng)選出正確選項(xiàng)填入括號(hào)內(nèi)
在室溫下,半導(dǎo)體Si中摻入濃度為1014cm-3的磷雜質(zhì)后,半導(dǎo)體中多數(shù)載流子是(),多子濃度為(),費(fèi)米能級(jí)的位置();一段時(shí)間后,再一次向半導(dǎo)體中摻入濃度為1.1×1015cm-3的硼雜質(zhì),半導(dǎo)體中多數(shù)載流子是(),多子濃度為(),費(fèi)米能級(jí)的位置();如果,此時(shí)溫度從室溫升高至K550,則雜質(zhì)半導(dǎo)體費(fèi)米能級(jí)的位置()。(已知:室溫下,ni=1010cm-3;K550時(shí),ni=1017cm-3


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