單項選擇題Si中摻金的工藝主要用于制造（）器件。

A.高可靠性
B.高頻
C.大功率
D.高電壓


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1.單項選擇題若某半導體導帶中電子出現幾率為零，則此半導體必定（）。

A.處于絕對零度
B.不含任何雜質
C.不含任何缺陷
D.不含施主

2.單項選擇題II-VI族化合物中的M空位Vm是（）。

A.點陣中的金屬原子間隙
B.一種在禁帶中引入施主的點缺陷
C.點陣中的點陣中的金屬原子空位
D.一種在禁帶中引入受主的位錯

3.單項選擇題電子在晶體中的共有化運動是指（）。

A.電子在晶體中各處出現的幾率相同
B.電子在晶體原胞中各點出現的幾率相同
C.電子在晶體各原胞對應點出現的幾率相同
D.電子在晶體各原胞對應點的相位相同

4.單項選擇題最小電導率出現在（）型半導體。

A.n
B.p
C.本征