多項選擇題金屬W（鎢）的用途有（）。

A.局部互連
B.全局互連
C.鎢插塞
D.柵極


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1.多項選擇題下列屬于多晶硅薄膜的特性有（）。

A.擴散系數明顯高于單晶硅
B.晶粒尺寸大的薄膜電阻率小
C.晶向唯一
D.電阻率遠高于單晶硅

2.多項選擇題?LPCVD系統(tǒng)與PECVD系統(tǒng)相比，它們的相同點有（）。

A.產量低
B.可淀積Si3N4等
C.臺階覆蓋好
D.反應控制

3.多項選擇題?APCVD系統(tǒng)的缺點有（）。?

A.均勻性差
B.易發(fā)生氣相反應
C.臺階覆蓋
D.高溫工藝

4.多項選擇題下列關于LPCVD的描述正確的有（）。

A.擴散控制
B.嚴格控制溫度
C.反應控制
D.低溫淀積工藝

5.多項選擇題?影響淀積速率的因素有（）。

A.降低δs
B.增加Um
C.減小基座長度L
D.增加溫度