問答題分析四管標(biāo)準(zhǔn)TTL與非門（穩(wěn)態(tài)時）各管的工作狀態(tài)？
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5.名詞解釋瞬態(tài)延遲時間
最新試題
試說明擴(kuò)散工藝中常用的擴(kuò)散摻雜方法，并說明當(dāng)前實(shí)際工藝中使用的主要方法及理由。
題型：問答題
自由電子是載流子，空穴不是。
題型：判斷題
說明氧化氣氛對擴(kuò)散有何影響及原因？
題型：問答題
試說明半導(dǎo)體制造中擴(kuò)散工藝的主要目的。列出并解釋實(shí)際擴(kuò)散工藝的主要步驟，并說明個步驟的主要作用和工藝溫度。
題型：問答題
試說明硅工藝中常用摻雜雜質(zhì)B，P，As的擴(kuò)散特性。
題型：問答題
舉例說明什么是同型摻雜和反型摻雜及各自的目的。
題型：問答題
二極管存在最高工作頻率是因?yàn)镻N 結(jié)有電容效應(yīng)。
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半導(dǎo)體獲得廣泛應(yīng)用的原因是（）
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在PN 結(jié)形成過程中，空穴的擴(kuò)散運(yùn)動方向是從P 區(qū)到N 區(qū)。
題型：判斷題
下列半導(dǎo)體材料熱敏特性突出的是（）
題型：單項(xiàng)選擇題