国产精品毛片av一区二区三区,亚洲色图第四色,亚洲av日韩av欧美av网站

判斷題PN結(jié)隔離所依據(jù)的基本原理是利用PN結(jié)正向偏置時的高阻性。

1.判斷題集成電路制造工藝中隔離擴散的深度可以不超過外延層的厚度。

2.判斷題滿足雙極晶體管的正常工作，需要晶體管的基區(qū)非常薄，小于少子的擴散長度才可，這樣使擴散遠遠大于復(fù)合。

3.判斷題制備光刻掩膜版，希望黑白區(qū)域間的過渡區(qū)越大越好。

4.判斷題在紫外光曝光、X射線曝光、電子束曝光技術(shù)中可實現(xiàn)直寫式曝光不需要掩模版的是X射線曝光技術(shù)。

5.判斷題通常稱在低阻襯底材料上生長高阻外延層的工藝為正向外延，反之稱為反向外延。