最新試題
光學光刻中影響圖像質量的兩個重要參數(shù)是什么？
題型：問答題
解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？
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定義刻蝕速率并描述它的計算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？
題型：問答題
解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？
題型：問答題
解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？
題型：問答題
干法刻蝕的目的是什么？例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點。干法刻蝕的不足之處是什么？
題型：問答題
解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的？掃描投影光刻機努力解決什么問題？
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解釋什么是暗場掩模板？
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刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。
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敘述氮化硅的濕法化學去除工藝。
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