問答題試說明MOS工藝中存在的自對準(zhǔn)結(jié)構(gòu)及他們的主要優(yōu)點(diǎn)。

參考答案： 源漏的自對準(zhǔn)注入（LDD）：在硅柵工藝中，利用多晶硅柵的掩蔽作用自對準(zhǔn)地進(jìn)行源漏區(qū)的雜質(zhì)注入，并同時(shí)完成多晶硅柵的雜質(zhì)注...