多項選擇題硅片制備最先進的拋光工藝是（）。

A.化學拋光
B.機械拋光
C.化學機械拋光
D.CMP


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1.多項選擇題現代硅單晶制備所需電子級多晶硅的純度是（）。

A.分析純
B.化學純
C.99.9999999%
D.9個N

2.多項選擇題相對于其他半導體，硅半導體的重要性體現在（）。

A.工藝最先進
B.材料性能優(yōu)良
C.工藝成本低
D.晶圓尺寸最大

3.多項選擇題對第一只晶體管描述正確的是（）。

A.是1947年Bell實驗室發(fā)明的
B.是Ge（鍺）晶體管
C.是Si（硅）晶體管
D.是1971年Intel發(fā)明的

4.單項選擇題對摩爾定律描述不正確的是（）。

A.集成度每18月翻一番
B.最小特征尺寸每3年減小50%
C.最小特征尺寸每3年減小70%
D.集成度每三年翻一番

5.單項選擇題因為離子注入所引起的簡單或復雜的缺陷統稱為（）。?

A.晶格損傷
B.晶格缺陷
C.晶胞損傷
D.晶胞缺陷