單項選擇題

下圖屬于什么光刻機？（）

A.接觸式光刻機
B.步進掃描光刻機
C.分布重復光刻機
D.接近式光刻機


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1.單項選擇題對于0.25um及以下的隔離技術采用以下（）方式。

A.局部氧化隔離
B.PN結隔離
C.PN結-介質隔離
D.淺槽隔離

2.單項選擇題WCVD工藝第一步是（）。

A.浸潤
B.成核
C.BULK
D.直接反應

3.單項選擇題Liner barrier阻擋金屬間擴散作用的金屬是（）。

A.金屬Al
B.金屬鈦
C.金屬氮化鈦
D.金屬鎢

4.單項選擇題摻氯氧化使用的HCL是（）。

A.液態(tài)源
B.固態(tài)源
C.氣態(tài)源