問答題解釋APCVD，使用APCVD SiO₂的主要問題是什么，是用硅烷作為反應源嗎？

參考答案： 常壓化學氣相淀積；傳統(tǒng)上這些膜通常作為層間介質（ILD），保護覆蓋物或者表面平坦化；不是使用硅烷作為反應源。