單項選擇題集成電路版圖設(shè)計中不是MOS管的可變參數(shù)是（）。?

A.柵長（gate_length）
B.氧化層厚度
C.柵寬（gate_width）
D.柵指數(shù)（gates）


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1.單項選擇題集成電路版圖設(shè)計規(guī)則（Design Rules）沒有提供的規(guī)則是（）。

A.各層的最小寬度
B.層與層之間的最小間距
C.摻雜濃度
D.層與層之間的最小交疊

2.單項選擇題集成電路版圖設(shè)計規(guī)則（Design Rules）文件是由（）制定提供的。?

A.Foundry（集成電路制造公司）
B.集成電路設(shè)計公司
C.集成電路測試公司
D.集成電路封裝公司

3.單項選擇題以下不是版圖驗證的流程是（）。?

A.DRC
B.ERC
C.CLVS
D.P&R

4.單項選擇題以下集成電路版圖（Layout）設(shè)計技術(shù)及方法，不正確的是（）。

A.版圖設(shè)計之前需要科學規(guī)劃
B.合理設(shè)計金屬連線的寬度
C.襯底應(yīng)該保證良好的接地
D.電路中較長的走線，不需要考慮到電阻效應(yīng)

5.單項選擇題集成電路設(shè)計及制造中，版圖（Layout）與掩膜（Mask）的關(guān)系是（）。?

A.根據(jù)版圖提供的信息來制造掩膜
B.根據(jù)掩膜提供的信息來設(shè)計版圖
C.版圖（Layout）與掩膜（Mask）的毫無關(guān)系
D.不確定