微電子學章節(jié)練習(2019.12.12)

來源：考試資料網(wǎng)

1.問答題簡要說明正膠和負膠的關(guān)光刻原理與特性。

參考答案：原理：臨時性地涂覆在硅片表面，通過曝光轉(zhuǎn)移設計圖形到光刻膠上。
負膠特性：
1曝光后不可溶解

2.填空題 注入離子的射程主要由（）決定。確定注入離子分布的主要參數(shù)是（）及其（）。注入離子分布的一級近似為（）?？蓪懗桑?img src="https://newimg.ppkao.com/2019-07/wangjing/2019070410290232389.jpg" />

參考答案：離子能量、離子種類和襯底材料；平均投影射程；標準偏差；高斯分布

3.填空題 免可控硅效應的方法從（）寄生管的總增益，以及消除寄生晶體管出發(fā)，主要有：
1. （）；
2. （）；
3. 使用可以吸收注入電荷的（）；
4. （）；
5. 最可靠的是（），可以消除所有寄生元件的產(chǎn)生。

參考答案：降低；增加基區(qū)寬度（即P-NMOS管的間距和阱深）；增加基區(qū)摻雜；保護環(huán)；采用深槽隔離；采用SOI材料作襯底

4.名詞解釋激發(fā)-松弛碰撞

參考答案：當電子和原子或者分子碰撞時，電子沒有脫離核的束縛，而是躍遷到更高的能級叫激發(fā)。處于激發(fā)狀態(tài)的電子落回到基態(tài)或者最低能級叫...

5.名詞解釋MPW多項目晶圓

參考答案：是將多個使用相同工藝的集成電路設計放在同一晶圓片上流片，單次制造費用由所有參加MPW的項目按照芯片面積分攤，減小產(chǎn)品開發(fā)...

6.名詞解釋歐姆接觸

參考答案：當金屬與半導體的接觸電阻小到可忽略不計時，稱為歐姆接觸。

7.問答題使用什么材料制作投影掩膜板，投影掩膜板上形成圖形的不透明材料是什么？

參考答案：最主要的是用于亞微米光刻的投影掩膜版襯底材料是熔融石英。不透明材料是一薄層鉻。

8.問答題RCA清洗，用什么樣藥水？洗什么樣的沾污？

9.問答題什么是leftoff技術(shù)？優(yōu)點和缺點是什么？

參考答案：Liftoff技術(shù)是一種有別與干法和濕法刻蝕的介質(zhì)薄膜，特別是金屬薄膜特殊剝離去除技術(shù)
優(yōu)點是：樣品不必做實際...

10.判斷題對于一個PN結(jié)，如果反偏電壓降低，耗盡區(qū)寬度將減小。