微電子學章節(jié)練習(2020.04.19)
來源：考試資料網(wǎng)
參考答案：（1）IC制造中所有圖形化刻蝕均為等離子體刻蝕或干法刻蝕。
（2）應用于電介質(zhì)積淀。
（3）離子注入... 參考答案：
機理：等離子體由中性原子團、游離基、分子、離子、少量高能電子組成。
優(yōu)勢：可以較低溫度下淀積薄膜，常是低溫與低壓結(jié)合
參考答案：芯片的關(guān)鍵尺寸（CD）是指硅片上的最小特征尺寸；
因為我們將CD作為定義制造復雜性水平的標準，也就是如果你擁有... 參考答案：二極管特性；金屬功函數(shù)和半導體表面功函數(shù)；線性；歐姆接觸；1020/cm3 參考答案：①定義：在單晶襯底上新生一層單晶膜的技術(shù)。
以氣相外延為例，則是含外延層材料的物質(zhì)以氣相形式流向襯底，在高溫下...
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