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每日一練
章節(jié)練習(xí)
半導(dǎo)體芯片制造工問答題每日一練(2020.02.02)
來源:考試資料網(wǎng)
1.問答題
例舉離子注入設(shè)備的5個主要子系統(tǒng)。
參考答案:
(1)離子源:待注入物質(zhì)必須以帶電粒子束或離子束的形式存在。注入離子在離子源中產(chǎn)生
(2)引出電極(吸極)和離子...
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2.問答題
集成電容主要有哪幾種結(jié)構(gòu)?
參考答案:
①金屬-絕緣體-金屬(MIM)結(jié)構(gòu);
②多晶硅/金屬-絕緣體-多晶硅結(jié)構(gòu);
③金屬叉指結(jié)構(gòu);
④PN結(jié)電容;
⑤MOS電容。
3.問答題
描述RF濺射系統(tǒng)。
參考答案:
4.問答題
解釋下列名詞:互連、接觸、通孔和填充塞。
參考答案:
(1)互連:由導(dǎo)電材料,如鋁、多晶硅和銅制成的連線將電信號傳輸?shù)叫酒牟煌糠?。互連也被用于芯片上器件和器件整個封裝之間...
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5.問答題
什么是離子注入的橫向效應(yīng)?同等能量注入時,As和B哪種橫向效應(yīng)更大?為什么?
參考答案:
橫向效應(yīng):注入的離子在垂直于入射方向平面內(nèi)的分布情況。橫向效應(yīng)與注入離子的種類和離子能量有關(guān)。B的橫向效應(yīng)更大,因?yàn)橘|(zhì)量...
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