微電子學單項選擇題每日一練(2020.03.15)

來源：考試資料網(wǎng)

1 在溫度相同的情況下，制備相同厚度的氧化層，分別用干氧，濕氧和水汽氧化，哪個需要的時間最長？（）

2 浸入式光刻技術(shù)可以使193nm光刻工藝的最小線寬減小到45nm以下。它通過采用折射率高的液體代替透鏡組件間的空氣，達到（）的目的。

3 半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中所制備的二氧化硅薄膜屬于（）。

4 離子注入與熱擴散相比，哪個橫向效應(yīng)?。ǎ?/a>

5 離子注入過程是一個非平衡過程，高能離子進入靶后不斷與原子核及其核外電子碰撞，逐步損失能量，最后停下來。停下來的位置是隨機的，大部分不在晶格上，因而沒有（）。