最新試題
光刻工藝對準(zhǔn)誤差包括()。
題型:多項選擇題
厚膜電阻的成分,一是導(dǎo)體顆粒,二是()。
題型:單項選擇題
多層陶瓷基板多層化的方法包括()。
題型:多項選擇題
互連工藝中AL的制備可選用()。
題型:多項選擇題
進(jìn)行溝槽填充常用的金屬材料是()。
題型:單項選擇題
進(jìn)行光刻工藝前的清洗步驟是()。
題型:單項選擇題
注入損傷與注入離子的以下哪個參數(shù)無關(guān)?()
題型:單項選擇題
濕氧氧化采用的氧化水溫是()。
題型:單項選擇題
三光檢查主要是檢查芯片粘貼和引線焊接之后有無各種廢品。
題型:判斷題
刻蝕工藝可以和以下哪個工藝結(jié)合來實現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移?()
題型:單項選擇題