問(wèn)答題什么是集成電路設(shè)計(jì)？
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
1.問(wèn)答題閂鎖效應(yīng)起因？
3.問(wèn)答題簡(jiǎn)單敘述微電子學(xué)對(duì)人類社會(huì)的作用？
4.問(wèn)答題用你自己的話解釋微電子學(xué)、集成電路的概念？
5.問(wèn)答題列舉出你見到的、想到的不同類型的集成電路及其主要作用？
最新試題
光刻工藝的特點(diǎn)包括（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
CE定律發(fā)展面臨的問(wèn)題包括（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
刻蝕工藝可以和以下哪個(gè)工藝結(jié)合來(lái)實(shí)現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移？（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
消除鳥嘴效應(yīng)的方法有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
下面哪個(gè)選項(xiàng)不是集成電路工藝用化學(xué)氣體質(zhì)量的指標(biāo)？（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
進(jìn)行光刻工藝前的清洗步驟是（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
鳥嘴效應(yīng)造成的不良影響有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
刻蝕過(guò)程中聚合物形成的來(lái)源有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
硅暴露在空氣中，在室溫下即可產(chǎn)生二氧化硅層，厚度約為（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
濕氧氧化采用的氧化水溫是（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題