單項選擇題正常凝固是最寬熔區(qū)的區(qū)域提純,在進行第一次熔化過后,能不能進入第二次提純這個階段().
A、能
B、不能
C、不確定
D、有時可以,有時不可以
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1.單項選擇題當晶體生長的較快,內(nèi)坩堝中雜質(zhì)量變少,晶體的電阻率().
A.上升
B.下降
C.不變
D.不確定
2.單項選擇題制備單晶硅薄膜方面的主要工藝方法是().
A.汽-固
B.液-固
C.固-固
D.汽-液
3.單項選擇題測量硅中氧濃度常用的方法是().
A.帶電粒子活化法
B.熔化分析法
C.離子質(zhì)譜法
D.紅外光譜分析法
4.單項選擇題下列鑄造多晶硅的制備方法中,()沒有坩堝的消耗,降低了成本,同時又可減少雜質(zhì)污染長度。
A.布里曼法
B.熱交換法
C.電磁鑄錠法
D.澆鑄法
5.單項選擇題列多晶硅生長過程中需要通入氬氣做保護氣的是().
A.加熱
B.化料
C.晶體生長
D.冷卻
最新試題
N溝增強型MOS管襯底材料是N型摻雜半導體。
題型:判斷題
絕緣層材料的厚度會對MOS管的閾值電壓產(chǎn)生影響。
題型:判斷題
晶體管的全部應用模式中,共有()種放大倍數(shù)。
題型:填空題
雙極型晶體管使用中,電流最大的極是(),電流最小的極是()。
題型:填空題
P型襯底的MOS管的伏安特性曲線可以分為可調(diào)電阻區(qū),飽和區(qū)和擊穿區(qū)。
題型:判斷題
理想的MOS管其柵極電壓只會落在絕緣層和半導體襯底表面層上,柵極分壓占比小于50%。
題型:判斷題
第一塊集成電路發(fā)明于()年。
題型:填空題
MOS的輸出特性曲線中,給定的漏源電壓下漏源電流隨著柵極電壓的增大而增加。
題型:判斷題
理想的MOS管,柵極加上偏壓之后,溝道表面將產(chǎn)生一定厚度的耗盡層。
題型:判斷題
晶體管正常使用過程中,處于正偏的PN結(jié)是()結(jié),處于反偏的PN結(jié)是()結(jié)。
題型:填空題