最新試題
描述化學(xué)機械平坦化工藝。
題型：問答題
刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。
題型：問答題
例舉離子注入工藝和擴散工藝相比的優(yōu)點和缺點。
題型：問答題
解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？
題型：問答題
解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？
題型：問答題
什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？
題型：問答題
例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
題型：問答題
解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？
題型：問答題
例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。
題型：問答題
敘述氮化硅的濕法化學(xué)去除工藝。
題型：問答題