最新試題
例舉離子注入設(shè)備的5個(gè)主要子系統(tǒng)。
題型：問答題
解釋離子束擴(kuò)展和空間電荷中和。
題型：問答題
定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低？高選擇比意味著什么？
題型：問答題
描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。
題型：問答題
描述化學(xué)機(jī)械平坦化工藝。
題型：問答題
什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？
題型：問答題
例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴(kuò)散的三個(gè)步驟。
題型：問答題
什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？
題型：問答題
解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？
題型：問答題
光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么？
題型：問答題