最新試題
硅烷法制備高純硅的步驟不包括哪一項？（）
光刻工藝對準誤差包括（）。
鳥嘴效應(yīng)造成的不良影響有（）。
刻蝕過程中聚合物形成的來源有（）。
多層陶瓷基板多層化的方法包括（）。
化學(xué)機械拋光液的主要成分不包括的是哪個？（）
封裝工藝中，銀漿固化的溫度為（）。
下面哪個選項不是集成電路工藝用化學(xué)氣體質(zhì)量的指標？（）
光刻工藝的特點包括（）。
硅暴露在空氣中，在室溫下即可產(chǎn)生二氧化硅層，厚度約為（）。
