A.本征半導(dǎo)體
B.金屬
C.化合物半導(dǎo)體
D.摻雜半導(dǎo)體
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A.質(zhì)量較大的原子形成的半導(dǎo)體產(chǎn)生的空穴
B.價帶頂附近曲率較大的等能面上的空穴
C.價帶頂附近曲率較小的等能面上的空穴
D.自旋—軌道耦合分裂出來的能帶上的空穴
A.復(fù)合機構(gòu)
B.能帶結(jié)構(gòu)
C.晶體結(jié)構(gòu)
D.散射機構(gòu)
A.高可靠性
B.高頻
C.大功率
D.高電壓
A.處于絕對零度
B.不含任何雜質(zhì)
C.不含任何缺陷
D.不含施主
A.點陣中的金屬原子間隙
B.一種在禁帶中引入施主的點缺陷
C.點陣中的點陣中的金屬原子空位
D.一種在禁帶中引入受主的位錯
最新試題
氧化鋁(Al2O3)的介電常數(shù)一般低于氮化硅(Si3N4)的介電常數(shù)。
n溝耗盡型MOS型場效應(yīng)晶體管的閾值電壓一定大于相應(yīng)的n溝增強型MOS管的閾值電壓。
晶體管的全部應(yīng)用模式中,共有()種放大倍數(shù)。
半導(dǎo)體的主要特征有()()()和()。
MOS管可以分為4類型,其中p溝增強型MOS的載流子主要是電子。
絕緣層材料質(zhì)量影響MOS管的閾值電壓。
“合金型晶體管”,“平面型晶體管”和“外延型晶體管”這三種晶體管中,目前生產(chǎn)最主要的一種是()。
柵極材料和半導(dǎo)體襯底材料的功函數(shù)差會影響MOS管的閾值電壓。
P型襯底的MOS管的伏安特性曲線可以分為可調(diào)電阻區(qū),飽和區(qū)和擊穿區(qū)。
MOS管的轉(zhuǎn)移特性曲線指的是漏源電壓與漏源電流之間的關(guān)系曲線。