A.復(fù)合機(jī)構(gòu)
B.能帶結(jié)構(gòu)
C.晶體結(jié)構(gòu)
D.散射機(jī)構(gòu)
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A.高可靠性
B.高頻
C.大功率
D.高電壓
A.處于絕對(duì)零度
B.不含任何雜質(zhì)
C.不含任何缺陷
D.不含施主
A.點(diǎn)陣中的金屬原子間隙
B.一種在禁帶中引入施主的點(diǎn)缺陷
C.點(diǎn)陣中的點(diǎn)陣中的金屬原子空位
D.一種在禁帶中引入受主的位錯(cuò)
A.電子在晶體中各處出現(xiàn)的幾率相同
B.電子在晶體原胞中各點(diǎn)出現(xiàn)的幾率相同
C.電子在晶體各原胞對(duì)應(yīng)點(diǎn)出現(xiàn)的幾率相同
D.電子在晶體各原胞對(duì)應(yīng)點(diǎn)的相位相同
A.n
B.p
C.本征
最新試題
半導(dǎo)體的主要特征有()()()和()。
絕緣層材料的厚度會(huì)對(duì)MOS管的閾值電壓產(chǎn)生影響。
“合金型晶體管”,“平面型晶體管”和“外延型晶體管”這三種晶體管中,目前生產(chǎn)最主要的一種是()。
第一塊集成電路發(fā)明于()年。
絕緣層材料質(zhì)量影響MOS管的閾值電壓。
柵極材料和半導(dǎo)體襯底材料的功函數(shù)差會(huì)影響MOS管的閾值電壓。
MOS管可以分為4類型,其中p溝增強(qiáng)型MOS的載流子主要是電子。
晶體管的全部應(yīng)用模式中,共有()種放大倍數(shù)。
P型襯底的MOS管的伏安特性曲線可以分為可調(diào)電阻區(qū),飽和區(qū)和擊穿區(qū)。
1947年,()等人制造了第一個(gè)晶體管。