顯影也應(yīng)具有選擇性，高的顯影選擇性比意味著顯影液與曝光的光刻膠反應(yīng)得快。 要求比例低。
最新試題
CE定律發(fā)展面臨的問題包括（）。
光刻工藝的特點包括（）。
金屬化中可選用的金屬材料有（）。
鳥嘴效應(yīng)造成的不良影響有（）。
刻蝕工藝可以和以下哪個工藝結(jié)合來實現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移？（）
新的平坦化方法有哪幾個？（）
硅烷法制備高純硅的步驟不包括哪一項？（）
下面哪個選項不是集成電路工藝用化學氣體質(zhì)量的指標？（）
摻雜后，退火的目的是（）。
封裝工藝中，銀漿固化的溫度為（）。