單項選擇題以下不是擴散工藝的重要參數(shù)是（）。?

A.表面濃度
B.雜質(zhì)類型
C.結(jié)深
D.摻入雜質(zhì)總量


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2.單項選擇題通過定域、定量擴散摻雜，不能實現(xiàn)的目的是（）。?

A.改變半導(dǎo)體導(dǎo)電類型
B.改變電阻率
C.形成PN結(jié)
D.形成隔離

3.單項選擇題集成電路版圖設(shè)計中不是MOS管的可變參數(shù)是（）。?

A.柵長（gate_length）
B.氧化層厚度
C.柵寬（gate_width）
D.柵指數(shù)（gates）

4.單項選擇題集成電路版圖設(shè)計規(guī)則（Design Rules）沒有提供的規(guī)則是（）。

A.各層的最小寬度
B.層與層之間的最小間距
C.摻雜濃度
D.層與層之間的最小交疊

5.單項選擇題集成電路版圖設(shè)計規(guī)則（Design Rules）文件是由（）制定提供的。?

A.Foundry（集成電路制造公司）
B.集成電路設(shè)計公司
C.集成電路測試公司
D.集成電路封裝公司