最新試題
給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？
刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。
解釋發(fā)生刻蝕反應的化學機理和物理機理。
解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？
什么是結深？
例舉并解釋硅中固態(tài)雜質擴散的三個步驟。
在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？
例舉并描出旋轉涂膠的4個基本步驟。
解釋離子束擴展和空間電荷中和。
解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的？掃描投影光刻機努力解決什么問題？
