最新試題
例舉雙大馬士革金屬化過程的10個(gè)步驟。
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例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個(gè)基本步驟。
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描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。
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例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
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什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？
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解釋正性光刻和負(fù)性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？
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解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的？掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問題？
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解釋發(fā)生刻蝕反應(yīng)的化學(xué)機(jī)理和物理機(jī)理。
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描述RF濺射系統(tǒng)。
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解釋什么是暗場(chǎng)掩模板？
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