微電子學(xué)章節(jié)練習(xí)(2019.12.11)
來(lái)源：考試資料網(wǎng)
2.問(wèn)答題什么是電路模擬？其在IC設(shè)計(jì)中的作用。
參考答案：根據(jù)電路的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)和元件參數(shù)將電路問(wèn)題轉(zhuǎn)換成適當(dāng)?shù)臄?shù)學(xué)方程并求解，根據(jù)計(jì)算結(jié)果檢驗(yàn)電路設(shè)計(jì)的正確性。
版圖設(shè)計(jì)...
版圖設(shè)計(jì)...
3.問(wèn)答題GaAs相對(duì)Si的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)是什么？
參考答案：優(yōu)點(diǎn)：
A.比硅更高的電子遷移率，高頻微波信號(hào)響應(yīng)好——無(wú)線和高速數(shù)字通信
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A.比硅更高的電子遷移率，高頻微波信號(hào)響應(yīng)好——無(wú)線和高速數(shù)字通信
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4.問(wèn)答題列出光刻工藝的十個(gè)步驟，并簡(jiǎn)述每一步的目的。
6.問(wèn)答題列出光刻的8個(gè)步驟，并對(duì)每一步做出簡(jiǎn)要解釋。
參考答案：1氣相成底膜：第一步是清洗、脫水和硅片表面成底膜處理。
2旋轉(zhuǎn)涂膠：完成底膜后，硅片要立即采用旋轉(zhuǎn)涂膜的方法涂...
2旋轉(zhuǎn)涂膠：完成底膜后，硅片要立即采用旋轉(zhuǎn)涂膜的方法涂...
7.問(wèn)答題說(shuō)明RCA清洗硅片的方法，SC-1和SC-2的配方特點(diǎn)
8.問(wèn)答題簡(jiǎn)述離子注入機(jī)的各部分工作原理？
參考答案：離子注入機(jī)主要由離子源、分析磁體、加速聚焦器、掃描偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)、靶室及終端臺(tái)和真空系統(tǒng)6大部分組成。
1）離子源的...
1）離子源的...
參考答案：非平衡少子；平衡多子；非平衡
參考答案：被電子占有的幾率為1/2的能級(jí)；禁帶中央；電子和空穴數(shù)相等；電子數(shù)多于空穴數(shù)；N；空穴數(shù)多于電子數(shù)；P
