最新試題

有哪幾種常用的化學(xué)氣相淀積薄膜的方法?

題型:?jiǎn)柎痤}

pn結(jié)的擊穿電壓和反向漏電流既是晶體管的重要直流參數(shù),也是評(píng)價(jià)()的重要標(biāo)志。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

什么叫晶體缺陷?

題型:?jiǎn)柎痤}

在突緣電阻焊工藝中,要獲得良好的焊接質(zhì)量,必須確定的基本規(guī)范包括()

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

典型的GaAsMESFET結(jié)構(gòu)IC的工藝流程?

題型:?jiǎn)柎痤}

外殼設(shè)計(jì)包括()設(shè)計(jì)、熱性能設(shè)計(jì)和結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)三部分,而可靠性設(shè)計(jì)也包含在這三部分中間。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

濺射法是由()轟擊靶材表面,使靶原子從靶表面飛濺出來(lái)淀積在襯底上形成薄膜。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

塑封中注塑成型工藝主要工藝參數(shù)有()、模具溫度、合模壓力、注射壓力、注射速度和成型時(shí)間。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

半導(dǎo)體分立器件、集成電路對(duì)外殼的主要要求之一是:良好的熱性能。外殼應(yīng)有小的(),使芯片的熱量有效地散逸出去,保證器件在正常結(jié)溫下工作。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

簡(jiǎn)述在芯片制造中對(duì)金屬電極材料有什么要求?

題型:?jiǎn)柎痤}