問(wèn)答題簡(jiǎn)述化學(xué)氣相淀積的概念？
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
1.問(wèn)答題二氧化硅的應(yīng)用及相應(yīng)的生長(zhǎng)方法？
2.問(wèn)答題簡(jiǎn)述SiO2的用途?
3.問(wèn)答題RCA清洗，用什么樣藥水？洗什么樣的沾污？
4.問(wèn)答題沾污分為哪幾類？
最新試題
互連工藝中AL的制備可選用（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
CMP的設(shè)備構(gòu)成包括（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
進(jìn)行光刻工藝前的清洗步驟是（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
新的平坦化方法有哪幾個(gè)？（）
題型：多項(xiàng)選擇題
目前制備SOI材料的主流技術(shù)有幾種？（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
下面哪道工序主要是針對(duì)晶圓切割之后在顯微鏡下進(jìn)行晶圓r的外觀檢查，是否有出現(xiàn)廢品？（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
化學(xué)機(jī)械拋光液的主要成分不包括的是哪個(gè)？（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
常壓的硅外延方法有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
光刻工藝的設(shè)備核心是（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
CE定律發(fā)展面臨的問(wèn)題包括（）。
題型：多項(xiàng)選擇題