最新試題
新的平坦化方法有哪幾個？（）
進行光刻工藝前的清洗步驟是（）。
注入損傷與注入離子的以下哪個參數(shù)無關(guān)？（）
目前制備SOI材料的主流技術(shù)有幾種？（）
厚膜電阻的成分，一是導(dǎo)體顆粒，二是（）。
CMP的設(shè)備構(gòu)成包括（）。
摻雜后退火時間一般在（）。
互連工藝中AL的制備可選用（）。
摻雜后，退火的目的是（）。
CE定律發(fā)展面臨的問題包括（）。
