最新試題
刻蝕過程中聚合物形成的來源有（）。
鳥嘴效應造成的不良影響有（）。
刻蝕工藝可以和以下哪個工藝結合來實現(xiàn)圖形的轉移？（）
厚膜電阻的成分，一是導體顆粒，二是（）。
光刻工藝對準誤差包括（）。
摻雜后退火時間一般在（）。
CMP的設備構成包括（）。
金屬化中可選用的金屬材料有（）。
互連工藝中AL的制備可選用（）。
封裝工藝中，銀漿固化的溫度為（）。