填空題圓筒式等離子刻蝕的(),適用于()工藝;反應(yīng)離子刻蝕,(),可以用通入不同的工藝氣體,實(shí)現(xiàn)好的選擇性,適合于對()和()的刻蝕。
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光刻工藝的設(shè)備核心是()。
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當(dāng)許多損傷區(qū)連在一起時就會形成連續(xù)的非晶層,開始形成連續(xù)非晶層的注入劑量稱為()。
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多層陶瓷基板多層化的方法包括()。
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