注入離子的射程主要由（）決定。確定注入離子分布的主要參數(shù)是（）及其（）。注入離子分布的一級近似為（）?？蓪懗桑?img src="https://newimg.ppkao.com/2019-07/wangjing/2019070410290232389.jpg" />
最新試題
注入損傷與注入離子的以下哪個參數(shù)無關？（）
硅暴露在空氣中，在室溫下即可產(chǎn)生二氧化硅層，厚度約為（）。
金屬化中可選用的金屬材料有（）。
多層陶瓷基板多層化的方法包括（）。
化學機械拋光液的主要成分不包括的是哪個？（）
CE定律發(fā)展面臨的問題包括（）。
光刻工藝的特點包括（）。
封裝工藝中，銀漿固化的溫度為（）。
芯片粘接的工藝過程包括（）。
消除鳥嘴效應的方法有（）。