最新試題
定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低？高選擇比意味著什么？
題型：問答題
例出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。
題型：問答題
定義刻蝕速率并描述它的計(jì)算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？
題型：問答題
解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的？掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問題？
題型：問答題
解釋離子束擴(kuò)展和空間電荷中和。
題型：問答題
例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
題型：問答題
例舉離子注入設(shè)備的5個主要子系統(tǒng)。
題型：問答題
給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？
題型：問答題
例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
題型：問答題
什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？
題型：問答題