問(wèn)答題亞微米CMOS IC制造廠可分為哪六種獨(dú)立的生產(chǎn)區(qū)?
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當(dāng)許多損傷區(qū)連在一起時(shí)就會(huì)形成連續(xù)的非晶層,開始形成連續(xù)非晶層的注入劑量稱為()。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
下面哪道工序主要是針對(duì)晶圓切割之后在顯微鏡下進(jìn)行晶圓r的外觀檢查,是否有出現(xiàn)廢品?()
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影響封裝芯片特性的溫度有()。
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進(jìn)行溝槽填充常用的金屬材料是()。
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芯片粘接的工藝過(guò)程包括()。
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摻雜后,退火的目的是()。
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金屬化中可選用的金屬材料有()。
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光刻工藝的特點(diǎn)包括()。
題型:多項(xiàng)選擇題
硅暴露在空氣中,在室溫下即可產(chǎn)生二氧化硅層,厚度約為()。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
進(jìn)行光刻工藝前的清洗步驟是()。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題