A.p區(qū)接電源正極
B.n區(qū)結(jié)電源負(fù)極
C.偏置電壓只要大于0伏,pn結(jié)就處于正向?qū)顟B(tài)
D.此時(shí)p區(qū)向n區(qū)注入空穴
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A.空穴在價(jià)帶中
B.電子在導(dǎo)帶中
C.電子濃度等于空穴濃度
D.電子濃度隨溫度升高而增大
E.空穴濃度隨溫度升高而增大
F.空穴濃度和電子濃度之和隨溫度升高而增大
G.空穴濃度和電子濃度之乘積隨溫度升高而增大
A.狀態(tài)密度
B.溫度
C.費(fèi)米能級(jí)
D.導(dǎo)帶能級(jí)密度
A.純硅的費(fèi)米能級(jí)位于帶隙正中央
B.摻雜了鋁的硅的費(fèi)米能級(jí)靠近價(jià)帶
C.摻雜了鍺的硅的費(fèi)米能級(jí)靠近導(dǎo)帶
D.施主型半導(dǎo)體的費(fèi)米能級(jí)靠近價(jià)帶
A.電子濃度增大
B.硅的帶隙中出現(xiàn)了施主能級(jí)
C.少子數(shù)量增大
D.施主型載流子濃度就是多子濃度
A.它表明能量為E的狀態(tài)被占據(jù)的幾率
B.取值范圍為0%~100%
C.根據(jù)這個(gè)函數(shù),溫度越高,導(dǎo)帶能級(jí)被占據(jù)的幾率越小
D.費(fèi)米能級(jí)被占據(jù)的幾率是50%
最新試題
雙極型晶體管使用中,電流最大的極是(),電流最小的極是()。
當(dāng)p溝耗盡型MOS管處于飽和工作區(qū)時(shí),漏極將失去對(duì)漏源電流的控制能力。
處在飽和工作區(qū)的N型襯底材料MOS管,柵極將失去對(duì)漏源電流的控制作用。
1947年,()等人制造了第一個(gè)晶體管。
半導(dǎo)體的主要特征有()()()和()。
MOS的輸出特性曲線中,給定的漏源電壓下漏源電流隨著柵極電壓的增大而增加。
N型襯底的MOS管的伏安特性曲線可以分為可調(diào)電阻區(qū),飽和區(qū)和擊穿區(qū)。
雙極型晶體管內(nèi)部有()個(gè)極,()個(gè)區(qū),()個(gè)PN結(jié)。
“合金型晶體管”,“平面型晶體管”和“外延型晶體管”這三種晶體管中,目前生產(chǎn)最主要的一種是()。
柵極材料和半導(dǎo)體襯底材料的功函數(shù)差會(huì)影響MOS管的閾值電壓。