半導(dǎo)體芯片制造工章節(jié)練習(xí)(2019.05.13)

來(lái)源：考試資料網(wǎng)
參考答案：1）氧化劑分壓因?yàn)槠胶馇闆r下，SiO2中氧化劑的濃度C0=HPg，而拋物型速率常數(shù)B=2D
參考答案：擴(kuò)散工藝分類(lèi)：按原始雜質(zhì)源在室溫下的相態(tài)分類(lèi)，可分為固態(tài)源擴(kuò)散，液態(tài)源擴(kuò)散和氣態(tài)源擴(kuò)散。固態(tài)源擴(kuò)散（1）.開(kāi)管擴(kuò)散...
參考答案：張應(yīng)力（張的時(shí)候產(chǎn)生的應(yīng)力）與壓應(yīng)力（壓的時(shí)候產(chǎn)生的應(yīng)力）
在張應(yīng)力作用下，薄膜會(huì)相對(duì)襯底進(jìn)行...
參考答案：符號(hào)圖；抽象圖；線路圖；版圖
參考答案：1.離子源2.分析磁塊3.加速器4.中性束閘5.x&y掃描板6.法拉第杯
1.離子源作用：產(chǎn)生注入用的離子原理...
參考答案：1）溫度高溫區(qū)B區(qū)，生長(zhǎng)速率對(duì)溫度的變化不敏感，生長(zhǎng)速率由氣相質(zhì)量輸運(yùn)控制，并且對(duì)反應(yīng)室的幾何形狀和氣流有很大的依賴(lài)性。...