半導(dǎo)體材料章節(jié)練習(xí)(2019.07.09)
來源:考試資料網(wǎng)1.名詞解釋輕摻雜漏(LDD)
參考答案:
為了減小電壓擊穿效應(yīng),在緊鄰溝道處制造一輕摻雜漏區(qū)的MOSFET。
3.問答題解釋投射電子能顯微鏡。
4.問答題什么是層錯?
5.問答題產(chǎn)生紅外吸收的條件是什么?
參考答案:(1)振動頻率與紅外光譜段的某段頻率相等。
(2)偶極距的變化。
(2)偶極距的變化。
6.名詞解釋突變結(jié)近似
參考答案:
認(rèn)為從中性半導(dǎo)體區(qū)到空間電荷區(qū)的空間電荷密度有一個突然的不連續(xù)。
參考答案:腐蝕液的成分、電極電位、緩沖劑的影響、腐蝕處理的溫度和攪拌的影響、光照的影響。
參考答案:可分為高頻光電導(dǎo)和直流光電導(dǎo);高頻光電導(dǎo)的優(yōu)點,無須切割成一定的幾何形狀,樣品較少受到污染,測試方法簡單,得到廣泛應(yīng)用。...
10.問答題簡述P型半導(dǎo)體。
參考答案:當(dāng)半導(dǎo)體中摻有受主雜質(zhì)時,主要靠受主提供空穴導(dǎo)電,這種依靠空穴導(dǎo)電的半導(dǎo)體叫做P型半導(dǎo)體。
例如:硅中摻有Ⅲ...
例如:硅中摻有Ⅲ...