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問答題例舉高k介質(zhì)和低k介質(zhì)在集成電路工藝中的作用。

1.問答題描述CVD反應(yīng)中的8個(gè)步驟。

1）質(zhì)量傳輸
2）薄膜先驅(qū)物反應(yīng)
3）氣體分子擴(kuò)散
4）先驅(qū)物吸附
5）先驅(qū)物擴(kuò)散進(jìn)襯底
6）表面反應(yīng)
7）副產(chǎn)物解吸
8）副產(chǎn)物去除

2.問答題例舉淀積的5種主要技術(shù)。

3.問答題什么是多層金屬化？它對芯片加工來說為什么是必需的？

4.問答題例舉并描述薄膜生長的三個(gè)階段。

5.問答題什么是薄膜？