最新試題
離子源的目的是什么?最常用的離子源是什么?
題型:問答題
例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
題型:問答題
解釋離子束擴(kuò)展和空間電荷中和。
題型:問答題
描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。
題型:問答題
解釋鋁已經(jīng)被選擇作為微芯片互連金屬的原因。
題型:問答題
解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的?掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問題?
題型:問答題
哪種化學(xué)氣體經(jīng)常用來刻蝕多晶硅?描述刻蝕多晶硅的三個(gè)步驟。
題型:問答題
例舉雙大馬士革金屬化過程的10個(gè)步驟。
題型:問答題
在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么?
題型:問答題
定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低?高選擇比意味著什么?
題型:問答題